发明名称 |
一种异物检查处理装置及曝光机 |
摘要 |
本实用新型涉及一种异物检查处理装置及曝光机,其中异物检查处理装置用于对基板上的异物进行检查和处理,包括:用于承载基板的承载台;设置在基板两侧的光源,光源设置在承载台上;设置在承载台上的固定架;用于捕捉由基板上的异物经光源照射而发生散射的光线,并成像的第一图像传感器,设置在固定架上,以获得异物的位置和面积信息,并可在基板相对应的上方区域内移动;用于减小基板上的异物的高度,以使得异物的高度小于第一预设值的异物处理结构,设置在固定架上。异物检查处理装置使得异物的高度满足基板进行曝光的工艺要求,减小由于异物高度过大而造成的不能进行曝光的基板的损失。 |
申请公布号 |
CN203054450U |
申请公布日期 |
2013.07.10 |
申请号 |
CN201320045952.6 |
申请日期 |
2013.01.28 |
申请人 |
京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 |
发明人 |
黄常刚;张思凯;汪栋 |
分类号 |
G03F7/20(2006.01)I;G01B11/00(2006.01)I;G01B11/28(2006.01)I;G01N21/88(2006.01)I |
主分类号 |
G03F7/20(2006.01)I |
代理机构 |
北京银龙知识产权代理有限公司 11243 |
代理人 |
许静;黄灿 |
主权项 |
一种异物检查处理装置,用于对基板上的异物进行检查和处理,其特征在于,包括:承载台,用于承载基板;设置在基板两侧的光源,所述光源设置在所述承载台上;设置在所述承载台上的固定架;设置在所述固定架上的第一图像传感器,用于捕捉由基板上的异物经所述光源照射而发生散射的光线、并成像,以获得异物的位置和面积信息,并可在所述基板相对应的上方区域内移动;设置在所述固定架上的异物处理组件,用于对检测到的异物进行处理,减小基板上的异物的高度,以使得异物的高度小于第一预设值。 |
地址 |
100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号 |