发明名称 形成积体电路之感应器结构的方法及积体电路之感应器结构
摘要 本发明说明了形成微电子装置之方法及相关联的结构。那些方法可包含下列步骤:在一基材上形成一磁性材料,其中该磁性材料包含铼、钴、铁、及磷;以及在低于大约摄氏330度的一温度下将该磁性材料退火,其中该被退火的磁性材料之矫顽力低于大约1厄斯特。
申请公布号 TWI400364 申请公布日期 2013.07.01
申请号 TW097148512 申请日期 2008.12.12
申请人 英特尔股份有限公司 美国 发明人 麦克劳斯基 保罗;加德纳 唐纳德;杰米森 布鲁斯;洛伊 赛柏;欧丹尼尔 泰伦斯 O'DONNELL,
分类号 C25D5/50;B32B15/00;C25D5/48 主分类号 C25D5/50
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项
地址 美国