发明名称 |
形成积体电路之感应器结构的方法及积体电路之感应器结构 |
摘要 |
本发明说明了形成微电子装置之方法及相关联的结构。那些方法可包含下列步骤:在一基材上形成一磁性材料,其中该磁性材料包含铼、钴、铁、及磷;以及在低于大约摄氏330度的一温度下将该磁性材料退火,其中该被退火的磁性材料之矫顽力低于大约1厄斯特。 |
申请公布号 |
TWI400364 |
申请公布日期 |
2013.07.01 |
申请号 |
TW097148512 |
申请日期 |
2008.12.12 |
申请人 |
英特尔股份有限公司 美国 |
发明人 |
麦克劳斯基 保罗;加德纳 唐纳德;杰米森 布鲁斯;洛伊 赛柏;欧丹尼尔 泰伦斯 O'DONNELL, |
分类号 |
C25D5/50;B32B15/00;C25D5/48 |
主分类号 |
C25D5/50 |
代理机构 |
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代理人 |
林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼 |
主权项 |
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地址 |
美国 |