发明名称 | 半导体光转换构造 | ||
摘要 | 本发明公开了半导体光转换构造。所述半导体光转换构造包括半导体势阱,用于将第一波长的光的至少一部分转换成更长的第二波长的光;外层,设置在所述半导体势阱上并且具有第一折射率;结构化层,设置在所述外层上并且具有小于所述第一折射率的第二折射率。所述结构化层包括直接设置在所述外层上的多个结构体以及暴露所述外层的多个开口。所述半导体光转换构造还包括结构化外涂层,所述结构化外涂层直接设置在所述结构化层的至少一部分上以及所述多个开口内的所述外层的一部分上。所述外涂层具有大于所述第二折射率的第三折射率。 | ||
申请公布号 | CN102124583B | 申请公布日期 | 2013.06.19 |
申请号 | CN200980132160.9 | 申请日期 | 2009.06.10 |
申请人 | 3M创新有限公司 | 发明人 | 张俊颖;特里·L·史密斯;迈克尔·A·哈斯 |
分类号 | H01L33/50(2006.01)I | 主分类号 | H01L33/50(2006.01)I |
代理机构 | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人 | 梁晓广;关兆辉 |
主权项 | 一种半导体光转换构造,包括:半导体势阱,用于将第一波长的光的至少一部分转换成更长的第二波长的光;外层,设置在所述半导体势阱上并且具有第一折射率;结构化层,设置在所述外层上并且具有小于所述第一折射率的第二折射率,所述结构化层包括直接设置在所述外层上的多个结构体以及暴露所述外层的多个开口;以及结构化外涂层,直接设置在所述结构化层的至少一部分上以及所述多个开口内的所述外层的一部分上,所述外涂层具有大于所述第二折射率的第三折射率。 | ||
地址 | 美国明尼苏达州 |