发明名称 |
流体处理组件、用于流体处理组件的歧管和用于处理流体的方法 |
摘要 |
本发明涉及流体处理组件,其包括定位在相对的端部件之间的一个或多个交叉流动流体处理单元。流体处理单元包括具有进给侧和渗透侧的可渗透流体处理介质。流体处理组件还包括进给物入口和进给通路、渗透物出口和渗透物通路以及滞留物出口和滞留物通路。进给通路将进给流体从进给物入口引导到可渗透介质,并且沿着可渗透介质的进给侧切向地引导进给流体。渗透物通路将渗透物从可渗透介质的渗透侧引导到渗透物出口。滞留物通路将滞留物从可渗透介质的进给侧引导到滞留物出口。流动限制器定位在滞留物通路中。 |
申请公布号 |
CN103153425A |
申请公布日期 |
2013.06.12 |
申请号 |
CN201280003217.7 |
申请日期 |
2012.08.09 |
申请人 |
帕尔公司 |
发明人 |
S·珀尔;C·塞耶;S·梅西尔 |
分类号 |
B01D27/00(2006.01)I |
主分类号 |
B01D27/00(2006.01)I |
代理机构 |
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 |
代理人 |
钱亚卓 |
主权项 |
一种流体处理组件,其包括:相对的第一端部件和第二端部件;至少一个流体处理单元,所述至少一个流体处理单元定位在所述第一端部件和所述第二端部件之间,所述流体处理单元包括具有进给侧和渗透侧的可渗透流体处理介质;进给物入口和进给通路,所述进给通路从所述进给物入口通过所述流体处理单元延伸到所述流体处理介质的所述进给侧;渗透物出口和渗透物通路,所述渗透物通路从所述流体处理介质的所述渗透侧通过所述流体处理单元延伸到所述渗透物出口;滞留物出口和滞留物通路,所述滞留物通路从所述流体处理介质的所述进给侧通过所述流体处理单元延伸到所述滞留物出口;以及流动限制器,所述流动限制器定位在所述滞留物通路中,所述流动限制器被构造为增大所述滞留物通路中的背压。 |
地址 |
美国纽约 |