发明名称 |
光罩及检测其污染的方法 |
摘要 |
本发明是有关于一种光罩及检测其污染的方法。该光罩包含透明基材、掩模图案与检查结构。掩模图案形成于透明基材的第一区,其中掩模图案包含一个或多个开口,以及一个或多个特征。上述的开口用以允许光辐射通过,而特征的材质为第一材料。检查结构形成于透明基材上与第一区相异的第二区,且检查结构的材质为第二材料,其中第二材料与第一材料相异。 |
申请公布号 |
CN101666972B |
申请公布日期 |
2013.06.12 |
申请号 |
CN200910130393.7 |
申请日期 |
2009.04.07 |
申请人 |
台湾积体电路制造股份有限公司 |
发明人 |
郑智文 |
分类号 |
G03F1/44(2012.01)I;G03F1/82(2012.01)I;G03F1/84(2012.01)I |
主分类号 |
G03F1/44(2012.01)I |
代理机构 |
北京中原华和知识产权代理有限责任公司 11019 |
代理人 |
寿宁;张华辉 |
主权项 |
一种光罩,其特征在于其包含:一透明基材;一掩模图案,形成于该透明基材的一第一区,且该掩模图案包含:一个或多个开口,用以允许光辐射通过;及一个或多个特征,上述的特征的材质为一第一材料;以及一检查结构,形成于该透明基材上与该第一区相异的一第二区,且该检查结构的材质为一第二材料,其中该第二材料与该第一材料相异,该第二材料为亲水性,且该检查结构可被一光学显微镜或光学成像系统检查,而检测该光罩的污染状态。 |
地址 |
中国台湾新竹市新竹科学工业园区力行六路8号 |