发明名称 微影装置及器件制造方法
摘要 本发明揭示用以控制一浸没微影装置内之浸没液体之行为的电湿润之使用。
申请公布号 TWI397783 申请公布日期 2013.06.01
申请号 TW097146771 申请日期 2008.12.02
申请人 ASML荷兰公司 荷兰 发明人 史杰德 尼可拉斯 蓝伯特 东德;尼可拉斯 坦 凯特;鲁卡斯 亨利克斯 琼斯 史蒂芬斯;罗纳德 凡 德 翰;米歇尔 瑞潘
分类号 G03F7/20 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人 陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项
地址 荷兰