| 发明名称 | 在稀土类永久磁铁的表面形成电镀铜被膜的方法 | ||
| 摘要 | 本发明的课题在于提供一种用于在稀土类永久磁铁表面形成密合性优异的电镀铜被膜的新型方法。作为其解决手段的本发明的方法，其特征在于，将磁铁浸渍于镀液中之后，用10秒～180秒施加用于进行电镀铜处理的阴极电流密度0.05A/dm2～4.0A/dm2，开始处理。 | ||
| 申请公布号 | CN103125005A | 申请公布日期 | 2013.05.29 |
| 申请号 | CN201180047128.8 | 申请日期 | 2011.09.29 |
| 申请人 | 日立金属株式会社 | 发明人 | 蒲池政直;吉村公志 |
| 分类号 | H01F41/02(2006.01)I;C25D7/00(2006.01)I;C25D21/12(2006.01)I;H01F1/053(2006.01)I;H01F1/08(2006.01)I | 主分类号 | H01F41/02(2006.01)I |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人 | 李英 |
| 主权项 | 一种在稀土类永久磁铁表面形成电镀铜被膜方法，其特征在于，将磁铁浸渍于镀液中之后，用10秒～180秒施加用于进行电镀铜处理的阴极电流密度0.05A/dm2～4.0A/dm2，开始处理。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||