发明名称 DETERMINING LAYER THICKNESS USING PHOTOELECTRON SPECTROSCOPY
摘要 <p>본 발명의 일 실시형태에 따라, 기판 상의 단일의 또는 멀티-레이어 구조에서 하나 이상의 레이어의 두께를 결정하기 위해 광전자 분광법이 이용된다. 이 두께는, 광자와 충돌한 경우 기판에 의해 방출된 2 개의 광전자 종 또는 다른 원자-특정 특성 전자 종의 강도를 측정함으로써 결정될 수도 있다. 레이어의 두께에 의존하는 예측 강도 함수는 각각의 광전자 종에 대해 결정된다. 2 개의 예측 강도 함수의 비가 공식화되어, 구조 중 레이어의 두께를 결정하기 위해 이 비가 반복된다. 일 실시형태에 따라, 2 개의 광전자 종이 단일의 레이어로부터 측정되어 이 레이어의 두께를 결정할 수도 있다. 또 다른 실시형태에 따라, 레이어의 두께를 결정하기 위해 상이한 레이어로부터 또는 기판으로부터의 2 개의 광전자 종이 측정될 수도 있다.</p>
申请公布号 KR101264457(B1) 申请公布日期 2013.05.14
申请号 KR20077027804 申请日期 2006.04.19
申请人 发明人
分类号 H01J40/00;H01J49/02 主分类号 H01J40/00
代理机构 代理人
主权项
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