发明名称 |
一种用于极紫外光刻的衍射光学装置 |
摘要 |
本发明实施例公开了一种用于极紫外光刻的衍射光学装置,该装置包括:透光衬底;镀在所述透光衬底上表面的不透光薄膜;安装在所述不透光薄膜中心位置的聚焦衍射光学元件,所述聚焦衍射光学元件的个数至少为一个;安装在所述不透光薄膜上,且分布在所述聚焦衍射光学元件周围的调焦衍射光学元件,所述调焦衍射光学元件的个数至少为3个,且其分布位置不在同一直线上;其中,所述不透光薄膜上安装所述聚焦衍射光学元件和所述调焦衍射光学元件的位置,在所述聚焦衍射光学元件和所述调焦衍射光学元件上透光部分的相应位置具有透光孔。本发明所公开的衍射光学装置,解决了利用衍射光学元件进行极紫外光刻时,所述聚焦衍射光学元件的焦点寻找困难的问题。 |
申请公布号 |
CN103091991A |
申请公布日期 |
2013.05.08 |
申请号 |
CN201110338089.9 |
申请日期 |
2011.10.31 |
申请人 |
中国科学院微电子研究所 |
发明人 |
谢常青;辛将;朱效立;刘明 |
分类号 |
G03F7/20(2006.01)I;G02B5/18(2006.01)I |
主分类号 |
G03F7/20(2006.01)I |
代理机构 |
北京集佳知识产权代理有限公司 11227 |
代理人 |
逯长明 |
主权项 |
一种用于极紫外光刻的衍射光学装置,其特征在于,该装置包括:透光衬底;镀在所述透光衬底上表面的不透光薄膜;安装在所述不透光薄膜中心位置的聚焦衍射光学元件,所述聚焦衍射光学元件的个数至少为一个;安装在所述不透光薄膜上,且分布在所述聚焦衍射光学元件周围的调焦衍射光学元件,所述调焦衍射光学元件的个数至少为3个,且其分布位置不在同一直线上;其中,所述不透光薄膜上安装所述聚焦衍射光学元件和所述调焦衍射光学元件的位置,在所述聚焦衍射光学元件和所述调焦衍射光学元件上透光部分的相应位置具有透光孔。 |
地址 |
100029 北京市朝阳区北土城西路3号 |