一种用于MOCVD设备反应室的均气装置

摘要

本实用新型公开了一种反应室均气装置，包括：设于反应室上方的法兰，该法兰设有上下两层隔开的气源腔室，所述的气源腔室内部设有使气源在水平方向均匀分布的引流槽，上下两层气源腔室的出口设有均流网，第一气源依次与上下层气源腔室连通，第二气源与下层气源腔室连通。本实用新型能较好地为反应室内提供均匀的气氛场，从而提高批量生产的合格率。

主权项

一种反应室均气装置，其特征在于包括：设于反应室上方的法兰，该法兰设有上下两层隔开的气源腔室，所述的气源腔室内部设有使气源在水平方向均匀分布的引流槽，上下两层气源腔室的出口设有均流网，第一气源依次与上下层气源腔室连通，第二气源与下层气源腔室连通。