发明名称 一种低弹跳真空灭弧室结构
摘要 本发明公开了一种低弹跳真空灭弧室结构,特征在于:包括有杯托(5),杯托(5)内侧面分别与静触头(2)、动触头(4)连接,杯托(5)连接的内侧面上设有环形槽(7),环形槽(7)环绕的内圈为中间受力部分(9),加强筋(3)一端连接杯托(5)上的中间受力部分(9)。本发明即是在压力不变的情况下,通过改变受力面积,从而增大压强,促使工件在高压强的作用下发生微量塑性变形,吸收消除掉作用力。作用力降低,从而导致弹跳时间缩短、弹跳幅度减小,降低了触头发热、熔焊现象出现的概率,避免了触头电磨损加重,延长了真空灭弧室的使用寿命。
申请公布号 CN103050332A 申请公布日期 2013.04.17
申请号 CN201310026113.4 申请日期 2013.01.21
申请人 中国振华电子集团宇光电工有限公司(国营第七七一厂) 发明人 张毅;陈志会;周吉冰
分类号 H01H33/664(2006.01)I 主分类号 H01H33/664(2006.01)I
代理机构 北京联创佳为专利事务所(普通合伙) 11362 代理人 王娟;郭防
主权项 一种低弹跳真空灭弧室结构,其特征在于:包括有杯托(5),杯托(5)内侧面分别与静触头(2)、动触头(4)连接,杯托(5)连接的内侧面上设有环形槽(7),环形槽(7)环绕的内圈为中间受力部分(9),加强筋(3)一端连接杯托(5)上的中间受力部分(9)。
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