发明名称 |
涂敷装置及涂敷方法 |
摘要 |
本发明提供一种涂敷装置及涂敷方法,在行进的片材上涂敷涂敷液之际,能够通过吸嘴比现有技术更为有效地吸引厚涂部,因此,能够使吸引压力比较小,从而消除行进的片材发生抖动等的不良状况。在涂敷装置(10)具有吸嘴(15),在行进的带状的片材(18)上涂敷涂敷液之际,该吸嘴对形成在涂敷宽度方向两端部且比目标涂敷膜厚d厚的厚涂部(43)进行吸引,吸嘴(15)的涂敷宽度方向上的吸引面宽度Do及吸引口宽度Di在将厚涂部(43)的涂敷宽度方向上的宽度为W及高度为H、片材(18)与吸引面(54)之间的间隙为L时,满足下述的式1及式2。即,W≤Do…(式1)、W*H/L≤Di<Do-1mm…(式2)。 |
申请公布号 |
CN103008179A |
申请公布日期 |
2013.04.03 |
申请号 |
CN201210348068.X |
申请日期 |
2012.09.18 |
申请人 |
富士胶片株式会社 |
发明人 |
能条和彦;大岛笃;城正树;坂本孝博 |
分类号 |
B05C11/02(2006.01)I;B05D3/12(2006.01)I |
主分类号 |
B05C11/02(2006.01)I |
代理机构 |
中科专利商标代理有限责任公司 11021 |
代理人 |
蒋亭 |
主权项 |
一种涂敷装置,其具备吸嘴,在行进的带状的片材上涂敷涂敷液之际,该吸嘴对形成在涂敷宽度方向两端部且比目标涂敷膜厚更厚的厚涂部进行吸引,其中,所述吸嘴的涂敷宽度方向上的吸引面宽度Do及吸引口宽度Di在所述厚涂部的涂敷宽度方向上的宽度为W及高度为H、所述片材与所述吸引面之间的间隙为L时,满足下述的式1及式2,W≤Do…(式1)W*H/L≤Di<Do‑1mm…(式2)。 |
地址 |
日本国东京都 |