| 发明名称 | 晶片洗涤器和晶片洗涤方法 | ||
| 摘要 | 一种晶片洗涤器和晶片洗涤方法，该晶片洗涤器包括：一腔室；一支托盘，连接至一承轴，且位于腔室中，其中支托盘支撑一晶片；及一吹气管，设置于腔室的侧壁的顶部，其中吹气管包括多个面向下的气体注射孔，以沿着腔室的侧壁吹气，使来自晶片的水更平顺地和迅速地沿着腔室的侧壁流动，以避免水溅回至晶片。本发明可以通过气流控制水的流动，避免溅回的水对晶片造成不利的影响，产生微粒和晶粒破损的问题，提高了晶片的良率。 | ||
| 申请公布号 | CN103021904A | 申请公布日期 | 2013.04.03 |
| 申请号 | CN201210058350.4 | 申请日期 | 2012.03.06 |
| 申请人 | 南亚科技股份有限公司 | 发明人 | 章正欣;陈逸男;刘献文 |
| 分类号 | H01L21/67(2006.01)I;H01L21/02(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/67(2006.01)I |
| 代理机构 | 隆天国际知识产权代理有限公司 72003 | 代理人 | 姜燕;邢雪红 |
| 主权项 | 一种晶片洗涤器，包括：一腔室；一支托盘，连接至一承轴，且位于该腔室中，其中该支托盘支撑一晶片；及一吹气管，设置于该腔室的侧壁的顶部，其中该吹气管包括多个面向下的气体注射孔，以沿着该腔室的侧壁吹气，使来自该晶片的水更平顺地和迅速地沿着该腔室的侧壁流动，以避免水溅回至该晶片。 | ||
| 地址 | 中国台湾桃园县 | ||