发明名称 |
一种提高PEDOT:PSS薄膜物理性能的方法 |
摘要 |
本发明提供了一种提高有机高分子聚合物PEDOT:PSS的物理性能的方法,通过在基底上附着一层PEDOT:PSS薄膜,将沾附有机高分子聚合物PEDOT:PSS薄膜的基底置于真空度至少为3×10-4Pa的真空腔室中,用紫外线持续照射有机高分子聚合物PEDOT:PSS薄膜至少21h,经测量,有机高分子聚合物PEDOT:PSS的功函数及导电性均得到提高,该导电聚合物PEDOT:PSS将会在二极管和其他一些器件的设计中得到更多的应用。 |
申请公布号 |
CN103022362A |
申请公布日期 |
2013.04.03 |
申请号 |
CN201210540191.1 |
申请日期 |
2012.12.13 |
申请人 |
北京大学 |
发明人 |
邢英杰;钱旻昉 |
分类号 |
H01L51/48(2006.01)I;C23C14/12(2006.01)I;C23C14/58(2006.01)I;B05D3/02(2006.01)I;B05D3/06(2006.01)I |
主分类号 |
H01L51/48(2006.01)I |
代理机构 |
北京君尚知识产权代理事务所(普通合伙) 11200 |
代理人 |
余长江 |
主权项 |
一种提高PEDOT:PSS薄膜物理性能的方法,其包括以下步骤:1)在基底上附着一层PEDOT:PSS薄膜;2)烘烤沾有PEDOT:PSS薄膜的基底;3)将烘烤后的基底置于真空腔室中;4)用紫外线照射持续照射基底上的PEDOT:PSS薄膜。 |
地址 |
100871 北京市海淀区颐和园路5号北京大学 |