| 发明名称 | 质谱系统的现场调节 | ||
| 摘要 | 本发明公开了质谱系统的现场调节。在质谱仪或质谱仪系统(100，700，1100，1500，1900)中，诸如氢的调节气体被添加来调节或清洁质谱仪(104)的一个或多个部件或区域，诸如离子源(120)。调节气体可以在质谱仪(104)的上游添加，诸如添加到柱入口(112)或色谱柱(246)中，或者可以直接添加到质谱仪(104)中。调节气体可以在质谱仪(104)不分析样品时以离线方式添加，或在样品期间以在线方式添加。当在线添加时，调节气体可以与诸如氦的载气混合。在另一实施方式中，调节气体还充当通过柱(246)的载气，另一气体诸如氦可以被添加到在载气流。 | ||
| 申请公布号 | CN102998362A | 申请公布日期 | 2013.03.27 |
| 申请号 | CN201210286766.1 | 申请日期 | 2012.08.09 |
| 申请人 | 安捷伦科技有限公司 | 发明人 | 布鲁斯·D·昆比;哈瑞·F·普瑞思特;迈克尔·J·沙勒夫斯基;迈克尔·K·佛雷德 |
| 分类号 | G01N27/64(2006.01)I;G01N30/72(2006.01)I;H01J49/02(2006.01)I | 主分类号 | G01N27/64(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 11258 | 代理人 | 宋鹤 |
| 主权项 | 一种用于操作质谱仪系统(100，700，1100，1500，1900)的方法，所述方法包括：将样品和载气引入所述质谱仪系统(100，700，1100，1500，1900)的电离室(136)中；以及将调节气体流入所述质谱仪系统(100，700，1100，1500，1900)的质谱仪(104)中，其中，所述质谱仪(104)中的所述调节气体基本不改变所述样品的分析物的质谱特征，并且所述调节气体与所述载气不同。 | ||
| 地址 | 美国加利福尼亚州 | ||