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发明名称
基板昇降装置及基板处理装置
摘要
本发明提供一种即使在真空处理装置中,亦不会发生昇降销单方接触,可使基板安定昇降之基板昇降装置及基板处理装置。;上推板32的围绕筒体34系中空状且顶部34a具有开口,在该开口插入昇降销基端部9的下部。在上推板32的上面32a配备滚珠轴承35,在与上推板32相对的围绕筒体34的顶部内面34b配备滚珠轴承36。藉由滚珠轴承35抵接在设于昇降销基端部9的凸缘9a下面,且滚珠轴承36抵接在凸缘9a上面的方式,夹住昇降销基端部9的凸缘9a而支撑昇降销8。
申请公布号
TWI390658
申请公布日期
2013.03.21
申请号
TW095127801
申请日期
2006.07.28
申请人
东京威力科创股份有限公司 日本
发明人
伊藤毅
分类号
H01L21/68
主分类号
H01L21/68
代理机构
代理人
林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项
地址
日本
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