发明名称 基板昇降装置及基板处理装置
摘要 本发明提供一种即使在真空处理装置中,亦不会发生昇降销单方接触,可使基板安定昇降之基板昇降装置及基板处理装置。;上推板32的围绕筒体34系中空状且顶部34a具有开口,在该开口插入昇降销基端部9的下部。在上推板32的上面32a配备滚珠轴承35,在与上推板32相对的围绕筒体34的顶部内面34b配备滚珠轴承36。藉由滚珠轴承35抵接在设于昇降销基端部9的凸缘9a下面,且滚珠轴承36抵接在凸缘9a上面的方式,夹住昇降销基端部9的凸缘9a而支撑昇降销8。
申请公布号 TWI390658 申请公布日期 2013.03.21
申请号 TW095127801 申请日期 2006.07.28
申请人 东京威力科创股份有限公司 日本 发明人 伊藤毅
分类号 H01L21/68 主分类号 H01L21/68
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项
地址 日本