| 发明名称 | 用于包含铜层和钼层的多层结构膜的蚀刻液 | ||
| 摘要 | 提供一种用于包含铜层和钼层的多层薄膜的蚀刻液、以及使用其的包含铜层和钼层的多层薄膜的蚀刻方法。一种用于包含铜层和钼层的多层薄膜的蚀刻液，其中配混有(A)分子内具有两个以上羧基、且具有一个以上羟基的有机酸离子供给源、(B)铜离子供给源、以及(C)氨和/或铵离子供给源，所述蚀刻液的pH为5~8；以及使用其的蚀刻方法。 | ||
| 申请公布号 | CN102985596A | 申请公布日期 | 2013.03.20 |
| 申请号 | CN201180030089.0 | 申请日期 | 2011.05.27 |
| 申请人 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 发明人 | 玉井聪;冈部哲;松原将英;夕部邦夫 |
| 分类号 | C23F1/14(2006.01)I | 主分类号 | C23F1/14(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人 | 刘新宇;李茂家 |
| 主权项 | 一种用于包含铜层和钼层的多层薄膜的蚀刻液，其中配混有(A)分子内具有两个以上羧基、且具有一个以上羟基的有机酸离子供给源、(B)铜离子供给源、以及(C)氨和/或铵离子供给源，所述蚀刻液的pH为5~8。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||