| 发明名称 | 抗反射膜、偏振片和图像显示装置 | ||
| 摘要 | 本发明涉及抗反射膜、偏振片和图像显示装置，其中所述抗反射膜依以下顺序包括：透明衬底膜；中折射率层；高折射率层；和低折射率层，其中所述中折射率层是(A)在波长550nm下折射率为1.60-1.64和厚度为55.0-65.0nm的中折射率层，所述高折射率层是(B)在波长550nm下折射率为1.70-1.74和厚度为105.0-115.0nm的高折射率层，和所述低折射率层是(C)在波长550nm下折射率为1.32-1.37和厚度为85.0-95.0nm的低折射率层。 | ||
| 申请公布号 | CN101285898B | 申请公布日期 | 2013.03.20 |
| 申请号 | CN200810087604.9 | 申请日期 | 2008.03.20 |
| 申请人 | 富士胶片株式会社 | 发明人 | 朝仓彻也;铃木贵登 |
| 分类号 | G02B1/11(2006.01)I;G02B5/30(2006.01)I;G02F1/1335(2006.01)I | 主分类号 | G02B1/11(2006.01)I |
| 代理机构 | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人 | 于辉 |
| 主权项 | 一种抗反射膜，其依以下顺序包括：透明衬底膜；中折射率层；高折射率层；和低折射率层，其中所述中折射率层是(A)在波长550nm下折射率为1.60‑1.64和厚度为55.0‑65.0nm的中折射率层，所述高折射率层是(B)在波长550nm下折射率为1.70‑1.74和厚度为105.0‑115.0nm的高折射率层，和所述低折射率层是(C)在波长550nm下折射率为1.32‑1.37和厚度为85.0‑95.0nm的低折射率层，所述低折射率层包括至少一种折射率为1.17‑1.40的中空颗粒，通过以下步骤形成所述高折射率层和所述中折射率层中的至少一层：涂布涂布组合物，所述涂布组合物包括平均粒径为1nm‑120nm的锆氧化物；具有三官能的或更多官能的可聚合基团的可固化树脂；溶剂；和聚合引发剂，干燥所述溶剂，和通过加热和电离辐射照射中的一种或二种固化所述涂布组合物。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||