| 发明名称 | 背光模拟治具 | ||
| 摘要 | 本实用新型公开了一种背光模拟治具，涉及背光源显示器技术领域，实现通过实际部件来模拟背光源状态，进而使得测量背光源的结构参数的结果更加准确。该背光模拟治具包括：底部反射片；设置于所述底部反射片上方的多个可移动光源；设置于所述光源上方的可移动光学膜材，所述光学膜材用于将所述多个光源转化为面光源；设置于所述光学膜材上方的光学测量仪，所述光学测量仪用于测量所述光学膜材的出光均匀度和/或亮度。 | ||
| 申请公布号 | CN202793745U | 申请公布日期 | 2013.03.13 |
| 申请号 | CN201220446000.0 | 申请日期 | 2012.09.03 |
| 申请人 | 京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方显示光源有限公司 | 发明人 | 杨阳;刘同敏 |
| 分类号 | G01M11/02(2006.01)I;G01J1/00(2006.01)I;G01J1/02(2006.01)I | 主分类号 | G01M11/02(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人 | 申健 |
| 主权项 | 一种背光模拟治具，其特征在于，包括：底部反射片；设置于所述底部反射片上方的多个可移动光源；设置于所述光源上方的可移动光学膜材，所述光学膜材用于将所述多个光源转化为面光源；设置于所述光学膜材上方的光学测量仪，所述光学测量仪用于测量所述光学膜材的出光均匀度和/或亮度。 | ||
| 地址 | 100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号 | ||