发明名称 气体喷印装置及喷印方法
摘要 本发明公开了一种气体喷印装置,包括气化室,所述气化室具有一收容空间,所述气化室包括加热装置和用于放置样品的物料室;与气化室相连的进气管,所述进气管用于通入载气;与气化室相连的出气管,所述出气管用于输送气雾;出气管的末端设置有喷射装置,所述喷射装置包括喷头和载气管;以及,设置于喷射装置前方的接收装置,用于接收来自喷射装置的气雾。本发明具有操作简单,定位准确,应用范围广的优点,无需将固体溶解配成溶液,既可以克服打印、电纺丝等纳米制造技术中溶液配置带来的困扰,同时又能克服传统PVD,CVD和真空蒸镀过程中存在的无法准确定位在微区范围内制造纳米材料的缺点。
申请公布号 CN102963124A 申请公布日期 2013.03.13
申请号 CN201210496208.8 申请日期 2012.11.29
申请人 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所 发明人 潘革波;肖燕;刘永强;王凤霞;吴浩迪
分类号 B41J2/00(2006.01)I;B41J3/00(2006.01)I;B41M5/00(2006.01)I 主分类号 B41J2/00(2006.01)I
代理机构 代理人
主权项 一种气体喷印装置,其特征在于,包括:       气化室,具有一收容空间;       位于所述收容空间内的物料室和加热装置,该加热装置对物料室内的物料进行加热并使其升华成气雾;       与所述气化室连通的用于通入载气的进气管;       与所述气化室连通的用于输出气雾的出气管;       喷射装置,设于所述出气管的末端;       接收装置,接收来自喷射装置的气雾。
地址 215123 江苏省苏州市工业园区独墅湖高教区若水路398号