| 摘要 |
本发明旨在提供一种基板处理装置及基板处理方法，可高效率而顺畅地在水平移动之输送线上对于供给至被处理基板的第1处理液进行区别回收，并将其取代为第2处理液之动作，以抑制显影斑点之产生。;其中包含：水平移动输送线2，包含：第1输送区间M1，具有水平之输送道；第2输送区间M2，可由水平输送路形成上升倾斜输送道；及第3输送区间M3，于第2输送区间M2上升倾斜之状态下，接续于第2输送区间M2形成下降倾斜输送道；输送驱动部，驱动输送体6；第1处理液供给部9，于第1输送区间M1内在基板G上供给第1处理液D；第2处理液供给部13，于第3输送区间M3内在基板G上供给第2处理液W；及昇降机构，在于第2输送区间M2载置有被处理基板G之状态下，使舖设于该第2输送区间M2之输送体6上昇移动，以接续于第1输送区间M1形成上升倾斜输送道。 |
