一种超薄玻璃基板上导电膜的制备方法

摘要

本发明涉及一种超薄玻璃基板上导电膜的制备方法，采用磁控溅射法，设定初始磁控溅射功率和/或初始氩气流量进行导电膜的沉积，通过设置在所述超薄玻璃基板上的压力传感器检测所述导电膜的膜层应力，根据检测到的所述膜层应力实时调整磁控溅射功率和/或氩气流量，使得所述膜层应力保持在不使玻璃基板发生形变的范围内；其中，所述超薄玻璃基板的厚度小于等于0.1mm。本发明所述的制备方法得到的导电膜层应力可以大幅降低，能够适应柔性显示的需求，且均匀性保持不变。本发明所述技术方案能使得到的超薄玻璃基板表面平整，不发生变形，提高了可弯曲性能，从而提升了良品率和柔性显示器的可弯曲性能、提高了产能和产品的竞争力。

主权项

一种超薄玻璃基板上制备导电膜的方法，采用磁控溅射法，其特征在于，设定初始磁控溅射功率和/或初始氩气流量进行导电膜的沉积，通过设置在所述超薄玻璃基板上的压力传感器检测所述导电膜的膜层应力，根据检测到的所述膜层应力实时调整磁控溅射功率和/或氩气流量，使得所述膜层应力保持在不使所述超薄玻璃基板发生形变的范围内；其中，所述超薄玻璃基板的厚度小于等于0.1mm。