发明名称 | 一种真空吸盘 | ||
摘要 | 本实用新型涉及一种真空吸盘,其包括:吸盘体,所述吸盘体上具有贯穿吸盘的孔洞,所述孔洞数量为至少16个,所述孔洞外接吸尘装置。所述孔洞可为圆形、方形。本实用新型在吸盘的吸附表面设有贯穿的孔洞,外接真空吸尘装置,能够将产品被加工时产生的颗粒通过气流和贯穿的孔洞排除。使用时,产品紧密贴附在真空吸盘表面,不会因杂物承起导致应力集中而破损,能够降低被加工产品的破损率。且吸盘上具有若干大孔,减轻了吸盘的重量。 | ||
申请公布号 | CN202701611U | 申请公布日期 | 2013.01.30 |
申请号 | CN201220274025.7 | 申请日期 | 2012.06.12 |
申请人 | 武汉帝尔激光科技有限公司 | 发明人 | 李志刚 |
分类号 | B23K26/42(2006.01)I;B23K26/36(2006.01)I | 主分类号 | B23K26/42(2006.01)I |
代理机构 | 广州天河互易知识产权代理事务所(普通合伙) 44294 | 代理人 | 张果达 |
主权项 | 一种真空吸盘,其特征在于:包括吸盘体,所述吸盘体上具有贯穿吸盘的孔洞。 | ||
地址 | 430000 湖北省武汉市东湖开发区光谷产业园华师园二路四号 |