发明名称 应接器框架
摘要 本发明揭示并主张一种应接器框架,其包括一在该应接器框架之一第一端形成于该应接器框架中的隔离排泄路径。一内侧壁在该第一端形成于该应接器框架中且该内侧壁被定位在一空隙区附近。该空隙区介于一轴承与该应接器框架第一端之间。该内侧壁为该隔离排泄路径提供一第一边界。一外侧壁在该第一端形成于该应接器框架中且与该内侧壁沿穿过该应接器框架之一轴杆的轴向维度以一预定量分隔。该外侧壁为该隔离排泄路径提供一第二边界。
申请公布号 TW200817609 申请公布日期 2008.04.16
申请号 TW096130564 申请日期 2007.08.17
申请人 伊利诺伊苏克公司 发明人 大卫C 欧洛史基;尼尔F 霍李
分类号 F16J15/38(2006.01) 主分类号 F16J15/38(2006.01)
代理机构 代理人 陈长文
主权项
地址 美国