具有气流限制机构的等离子体处理系统及其方法

摘要

本发明公开了一种具有气流限制机构的等离子体处理系统，属于等离子处理技术领域。包括外框、电极板、气体输送管道、抽真空系统、置料夹具；电极板、置料夹具、气体输送管道上设有的出气孔均位于外框所形成的真空腔体内；置料夹具为框架型结构，位于两块对应的电极板中间，气体输送管道位于置料夹具与电极板之间,其出气孔与所述置料夹具框架相对。本发明还公开一种等离子体处理方法，采用上述的具有气流限制机构的等离子体处理系统，使气体均匀分布到电极板之间，充分电离产生均匀的等离子气体，再对处理样品进行等离子体处理。本发明能够均匀的进行等离子体处理，避免进行等离子体处理时产生的不均匀问题。还可以提高等离子体处理的效率。

主权项

一种具有气流限制机构的等离子体处理系统，包括外框、电极板、气体输送管道、抽真空系统、置料夹具；所述电极板、置料夹具、气体输送管道上设有的出气孔均位于外框所形成的真空腔体内；其特征在于，所述置料夹具为框架型结构，位于两块对应的电极板中间，所述气体输送管道位于置料夹具与电极板之间,其出气孔与所述置料夹具框架相对。