发明名称 |
一种监控光刻设备光路稳定性的装置 |
摘要 |
本发明涉及半导体制造领域,尤其涉及一种监控光刻设备光路稳定性的装置。本发明提出一种监控光刻设备光路稳定性的装置,通过在光刻设备的照明光路装置和投影光路装置上设置水平仪,从而实现实时监测光刻设备中的光路发生偏移的偏移量,以对光刻机进行及时的调整,有效避免因光路偏移量过大造成的停机监测状况,有效的提高光路偏移量监测的效率,进而降低生产成本。 |
申请公布号 |
CN102866593A |
申请公布日期 |
2013.01.09 |
申请号 |
CN201210343622.5 |
申请日期 |
2012.09.17 |
申请人 |
上海华力微电子有限公司 |
发明人 |
朱骏;张旭昇 |
分类号 |
G03F7/20(2006.01)I;G01M11/02(2006.01)I |
主分类号 |
G03F7/20(2006.01)I |
代理机构 |
上海申新律师事务所 31272 |
代理人 |
竺路玲 |
主权项 |
一种监控光刻设备光路稳定性的装置,包括有照明光路装置和投影光路装置的光刻设备,其特征在于,于所述照明光路装置和所述投影光路装置上设置至少一个水平仪。 |
地址 |
201210 上海市浦东新区张江高科技园区高斯路568号 |