CHROMOPHOR FOR ORGANIC ANTIREFLECTIVE LAYER AND COMPOSITION COMPRISING THEREOF
摘要
<p>미세한 패턴 형성이 요구되는 리소그래피, 특히 193nm ArF 엑시머 레이저를 이용하는 초미세 패턴 형성 리소그래피 공정에서, 노광 시 발생하는 반사광을 흡수할 수 있는 유기 반사 방지막용 신규 흡광제 및 이를 포함하는 유기 반사 방지막용 조성물을 제공하며, 상기 흡광제는 유기 반사 방지막용 조성물 내에서 결합제로서의 작용을 동시에 갖는다.</p>
