| 发明名称 | 掩膜构件的清洗装置及清洗方法以及有机EL显示器 | ||
| 摘要 | 掩膜构件的清洗装置及清洗方法以及有机EL显示器，当清洗进行了真空蒸镀后的掩膜构件时，将对清洗时的掩膜构件及清洗装置的负荷抑制到最小限度。将掩膜构件(1)在干洗涤台(11)中保持成铅直状态，使激光光线的脉冲从激光振荡器(22)经扫描光学系统(23)呈点状地照射在掩膜板(2)的表面上，使掩膜板(2)表面的蒸镀物质因掩膜板(2)和蒸镀物质之间的热膨胀率之差而破碎，依靠由长尺寸嘴(24)产生的负压吸引力的作用去除其碎片及薄片，接着在湿洗涤台(14)中，在溶剂洗涤部(12)中进行超声波洗涤，在淋洗部(13)中用溶剂清洗包含掩膜框(3)在内的掩膜构件(1)的整体。 | ||
| 申请公布号 | CN101834118B | 申请公布日期 | 2012.12.26 |
| 申请号 | CN201010129808.1 | 申请日期 | 2010.03.08 |
| 申请人 | 株式会社日立高新技术 | 发明人 | 弓场贤治;韭泽信广;片桐贤司;井崎良 |
| 分类号 | H01L21/00(2006.01)I;H01L51/56(2006.01)I;H01L27/32(2006.01)I;B08B3/08(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人 | 史雁鸣 |
| 主权项 | 一种掩膜构件的清洗装置，其对向基板的表面进行了蒸镀后的金属制的掩膜构件进行洗涤，去除附着在此掩膜构件上的蒸镀物质，上述掩膜构件安装在上述基板上，其特征在于，具备：通过间歇地且呈点状地加热上述掩膜构件与作为有机物质的蒸镀物质的分界面，并使此加热点移动，从此掩膜构件的表面去除其附着蒸镀物质的干洗涤台；在贮存了洗涤液的洗涤液槽内对干洗涤后的上述掩膜构件进行湿洗涤的湿洗涤台；上述蒸镀物质是有机物质。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||