发明名称 贴膜真空电镀方法
摘要 本发明公开了一种贴膜真空电镀方法,其包括下述步骤:a、来料处理;b、贴有镂空图案的膜;c、解除外膜和中膜;d、镀膜:将产品进行溅射镀膜处理,然后出真空炉、揭掉底膜,留下电镀的图案,一次检验、下挂、从治具中拆离、二次检验和覆盖外膜;e、喷涂前准备;f、喷涂:在产品上喷涂光泽性良好的UV漆,然后进行烘烤、UV固化、下件、从喷涂治具中拆离和检验的步骤。本发明的真空贴膜电镀方法在图形边缘不会形成锯齿,而且只需较短的时间就可完成。实际生产中能够批量生产出定位精确的贴膜贴到产品上,本发明使用的贴膜在真空镀膜时不会释放杂气,膜层没有发黑发黄的现象,是一种具备快速大量生产能力且图案美观的镀膜显图方案。
申请公布号 CN102828148A 申请公布日期 2012.12.19
申请号 CN201210292866.5 申请日期 2012.08.17
申请人 上海庭圣真空机械科技有限公司 发明人 不公告发明人
分类号 C23C14/04(2006.01)I 主分类号 C23C14/04(2006.01)I
代理机构 代理人
主权项 一种贴膜真空电镀方法,其特征在于:所述真空贴膜电镀方法包括下述步骤:a、来料处理:将产品来料进行抽检、入库、出库、运至贴膜车间,对产品解除包装及保护膜,然后进行清洗;b、贴有镂空图案的膜:将产品组装入贴膜治具,一次检验,投入贴膜自动线,校准贴膜机的位置,然后依次进行除尘、贴底膜、滚压排气、二次检验、贴中膜、三次检验和覆盖外膜的步骤;c、解除外膜和中膜;将产品运至磁控镀膜车间,解除外膜和中膜,然后依次经过一次检验、组装入治具、二次检验、上挂具、除尘、入真空炉和等离子轰击清洗的步骤,等离子轰击清洗采用密集的电子轰击产品表面;d、镀膜:将经过步骤c处理的产品进行溅射镀膜处理,在真空环境下将金属溅镀到产品的表面,将产品出真空炉,揭掉底膜,留下电镀的图案,然后依次经过一次检验、下挂、从治具中拆离、二次检验和覆盖外膜的步骤;e、喷涂前准备:将产品运至喷涂车间,然后依次经过解除外膜、一次检验、组装至喷涂治具、解除底膜、二次检验、上件和除尘的步骤;f、喷涂:在产品上喷涂光泽性良好的UV漆,然后进行烘烤、UV固化、下件、从喷涂治具中拆离和检验的步骤,得到成品出货。
地址 201715 上海市青浦区练塘镇蒸夏路209弄55号-2