发明名称 FILM-FORMING METHOD AND FILM-FORMING APPARATUS
摘要 <p>본 발명은 장치 구성의 간소화 및 비용 절감이 가능한 반사막 형성 기술을 제공하는 것이다. 본 발명의 성막 방법은 성막 영역에 공기를 도입하면서 성막 대상물 상에 증착에 의해 광 반사성의 반사막을 형성하는 반사막 형성 공정 (P2) 과, 이 반사막 상에 발수성 중합체막을 형성하는 중합체막 형성 공정 (P3) 과, 성막 영역에 공기를 도입하면서 상기 발수성 중합체막 상에 플라즈마에 의한 친수화 처리를 실시하는 친수화 처리 공정 (P5) 을 갖는다. 본 발명에 따르면, 아르곤 가스를 사용하지 않고, 반사막의 형성 및 중합체막의 친수화 처리를 실시할 수 있다.</p>
申请公布号 KR101213013(B1) 申请公布日期 2012.12.18
申请号 KR20107022547 申请日期 2009.04.14
申请人 发明人
分类号 C23C14/22;C23C14/24;C23C14/58 主分类号 C23C14/22
代理机构 代理人
主权项
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