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Vorrichtung zum Prüfen eines Halbleiterwafers, wobei die Vorrichtung eine Lichtquelle und mehrere Lichtsensoren (2A, 2B, 2C) aufweist, die in Beziehung zueinander und zu einer Fläche angeordnet sind, in der ein Wafer (8) anzuordnen ist, sodass eine Fläche des Wafers so geprüft werden kann, dass die Lichtsensoren (2A, 2B, 2C) gleichzeitig Bilder der Fläche eines ersten Wafers aus unterschiedlichen Winkeln erfassen können, sowie eine Datenverarbeitungsstufe, die die Bilder empfangen kann, um individuell jedes Bild mit einem Bild zu vergleichen, das zuvor mit dem gleichen Lichtsensor von einem zweiten Wafer aufgenommen wurde, und um automatisch anhand des Bildervergleichs einen Fehler zu detektieren, wobei die Vorrichtung ferner eine Haube (3) mit einer Innenfläche aufweist, die in Beziehung zur Lichtquelle (1), zu den mehreren Lichtsensoren (2A, 2B, 2C) und zur Ebene angeordnet ist, sodass die Lichtsensoren Licht von der Lichtquelle empfangen können, das von der Innenfläche (5) der Haube (3) und anschließend von einer...
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