| 发明名称 | 单晶衬底、单晶衬底的制造方法、带多层膜的单晶衬底的制造方法以及元件制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供的单晶衬底、单晶衬底的制造方法、使用该单晶衬底的带多层膜的单晶衬底的制造方法以及利用该制造方法的元件制造方法，对因多层膜的成膜而产生的翘曲进行矫正；在由第一区域(10D)和第二区域(10U)构成的两个区域中的任意一个区域内设有热改性层，并且，设有热改性层的区域的面侧翘曲成凸状，其中，第一区域(10D)和第二区域(10U)是在衬底的厚度方向上进行二等分而得到的。 | ||
| 申请公布号 | CN102792420A | 申请公布日期 | 2012.11.21 |
| 申请号 | CN201180011562.0 | 申请日期 | 2011.03.04 |
| 申请人 | 并木精密宝石株式会社;株式会社迪思科 | 发明人 | 会田英雄;青田奈津子;星野仁志;古田健次;浜元友三郎;本庄庆司 |
| 分类号 | H01L21/20(2006.01)I;C30B29/20(2006.01)I;C30B33/02(2006.01)I;H01L21/268(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/20(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海音科专利商标代理有限公司 31267 | 代理人 | 张成新 |
| 主权项 | 一种单晶衬底，其特征在于，在由第一区域和第二区域构成的两个区域中的所述任意一个区域内设有热改性层，并且，设有所述热改性层的区域的面侧翘曲成凸状，其中，所述第一区域和第二区域是在衬底的厚度方向上进行二等分而得到的。 | ||
| 地址 | 日本国东京都足立区新田3丁目8番22号 | ||