发明名称 | 用低压冷焊制作装置的方法 | ||
摘要 | 本发明提供一种把金属和/或有机层,从已刻图的印模,最好是软的、弹性体印模,转印到基片的方法。该已刻图的金属或有机层,例如可以用于广大范围的电子装置。本方法特别适合用于有机电子部件的纳米尺度的刻图操作。 | ||
申请公布号 | CN1795570B | 申请公布日期 | 2012.11.07 |
申请号 | CN200380109468.4 | 申请日期 | 2003.12.02 |
申请人 | 普林斯顿大学理事会 | 发明人 | 金昌淳;斯蒂芬·R·弗瑞斯特 |
分类号 | H01L51/40(2006.01)I | 主分类号 | H01L51/40(2006.01)I |
代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人 | 蒋世迅 |
主权项 | 一种转印方法,包括:在已刻图的、软的弹性体印模上,淀积金属层;通过将淀积在已刻图的、软的弹性体印模上的层冷焊到基片上的层或冷焊到所述基片,来把该金属层从已刻图的、软的弹性体印模,转印到所述基片上,所述方法还包括:在把金属层转印到基片上之前,在已刻图的、软的弹性体印模上的金属层上,淀积第一有机层;在把金属层转印到基片上之前,在基片上淀积第二有机层;和在金属层转印到基片的过程中,把第一有机层与金属层,从已刻图的、软的弹性体印模,转印到基片上的第二有机层上。 | ||
地址 | 美国新泽西 |