发明名称 垂直共振腔面射型激光及其制作方法
摘要 本发明提供一种垂直共振腔面射型激光及其制作方法,垂直共振腔面射型激光,包含一基板以及一磊晶叠层。磊晶叠层形成于该基板上,且包含有一环状锌扩散区、一位于该锌扩散区下方的环状离子布植区、一位于离子布植区下方的环状氧化区,以及一位于该环状氧化区下方的主动区,其中,该锌扩散区具有一锌扩散通孔,该离子布植区具有一离子布植通孔,且该氧化区具有一氧化通孔,且该锌扩散通孔、该离子布植通孔与该氧化通孔相互连通。此外,本发明还提供一种上述垂直共振腔面射型激光的制作方法。
申请公布号 CN102738703A 申请公布日期 2012.10.17
申请号 CN201110084714.1 申请日期 2011.04.01
申请人 光环科技股份有限公司 发明人 陈志诚;陈柏翰;吴承儒;潘金山
分类号 H01S5/183(2006.01)I;H01S5/187(2006.01)I 主分类号 H01S5/183(2006.01)I
代理机构 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 代理人 梁挥;张燕华
主权项 一种垂直共振腔面射型激光,其特征在于,包含:一基板;以及一磊晶叠层,形成于该基板上,该磊晶叠层包含有一环状锌扩散区、一位于该锌扩散区下方的环状离子布植区、一位于离子布植区下方的环状氧化区,以及一位于该环状氧化区下方的主动区;其中,该锌扩散区具有一锌扩散通孔,该离子布植区具有一离子布植通孔,且该氧化区具有一氧化通孔,且该锌扩散通孔、该离子布植通孔与该氧化通孔为相互连通。
地址 中国台湾新竹市
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