发明名称 |
受激发射损耗(STED)显微镜检查系统 |
摘要 |
本发明公开了一种用于对对象(O)进行受激发射损耗(STED)的光学显微镜检查系统(10)。应用光学元件(6)将第一激励射束(1)和第二损耗(2)射束聚焦到对象上,由此界定针对第一射束和第二射束两者的公共光学路径(OP)。在公共光学路径(OP)中插入相位修改构件(5),所述相位修改构件以光学方式被布置成用于使所述第一射束的波前基本不变,并改变所述第二射束(2')的波前,以便在所述对象中生成未损耗的感兴趣区域(ROI)。第一射束和第二射束具有公共光学路径,因为相位修改构件调整波前或相位,使其对第一射束没有影响,而给第二射束带来波前或相位变化,从而在焦平面处在对象中获得损耗区域(例如,成为环形斑)。本发明便于STED显微镜检查的更小和/或改进型光学设计;这对于医学活体内成像(例如内窥镜和导管)尤其相关。 |
申请公布号 |
CN102713719A |
申请公布日期 |
2012.10.03 |
申请号 |
CN201180005876.X |
申请日期 |
2011.01.13 |
申请人 |
皇家飞利浦电子股份有限公司 |
发明人 |
B·H·W·亨德里克斯;G·T·霍夫特;J·J·L·霍里克斯 |
分类号 |
G02B21/00(2006.01)I;G01N21/64(2006.01)I |
主分类号 |
G02B21/00(2006.01)I |
代理机构 |
永新专利商标代理有限公司 72002 |
代理人 |
王英;刘炳胜 |
主权项 |
一种用于相关联的对象(O)的受激发射损耗(STED)的光学显微镜检查系统(10),所述系统包括:辐射发生器件(7),其能够发射第一射束(1)和第二射束(2),所述第一射束为激励射束,所述第二射束为相对于所述第一射束的损耗射束,光学元件(6),其用于将聚焦所述第一射束和所述第二射束聚焦到所述对象上,相对于所述辐射发生器件布置所述光学元件,所述光学元件用于界定针对所述第一射束和所述第二射束两者的公共光学路径(OP),以及相位修改构件(5),其插入所述公共光学路径(OP)中,其中,所述相位修改构件以光学方式被布置成用于使所述第一射束的波前基本不变,并改变所述第二射束的波前(2'),以便在所述对象中生成未损耗的感兴趣区域(ROI)。 |
地址 |
荷兰艾恩德霍芬 |