Verfahren zur Modifizierung einer Oberfläche eines Substrats durch Ionenbeschuss

摘要

Es wird ein Verfahren zur Modifizierung einer Oberfläche eines Substrats (6) durch Ionenbeschuss beschrieben, bei dem die Ionen (7) mittels einer magnetfeldunterstützten Glimmentladung in einem Prozessgas (10) erzeugt werden, wobei die magnetfeldunterstützte Glimmentladung mittels eines Magnetrons (8, 9) erzeugt wird, das eine Elektrode (1) und mindestens einen Magneten (3) zur Erzeugung des Magnetfelds (4) aufweist. Das Prozessgas (10) weist mindestens einen elektronegativen Bestandteil auf, so dass bei der magnetfeldunterstützten Glimmentladung negative Ionen (7) erzeugt werden, wobei die negativen Ionen (7), welche an der Oberfläche der Elektrode (1) erzeugt werden, durch eine an die Elektrode (1) angelegte elektrische Spannung in Richtung des Substrats (6) beschleunigt werden. Die auf das Substrat (6) auftreffenden negativen Ionen bewirken (7) die Modifizierung der Oberfläche des Substrats (6).