发明名称 |
曝光装置与图像形成装置 |
摘要 |
本发明涉及曝光装置和图像形成装置。曝光装置包括:至少一个发光元件,其在基板的法线方向上发光;至少一个全息图元素,其记录在设置于基板上的记录层上以衍射从发光元件发出的光,并且将衍射光会聚在位于发光元件的法线上的聚光点上;以及至少一个光抑制部,其设置在连接发光元件和聚光点的直线上,使得经过全息图元素衍射的光透过光抑制部的外侧并会聚在聚光点处,从而抑制未被全息图元素衍射的、从发光元件向聚光点笔直前进的零次光的透射。 |
申请公布号 |
CN102681399A |
申请公布日期 |
2012.09.19 |
申请号 |
CN201110350148.4 |
申请日期 |
2011.11.08 |
申请人 |
富士施乐株式会社 |
发明人 |
三锅治郎;清水敬司;涌井美帆子;小笠原康裕;林和广;立石彰;安田晋;谷口元树 |
分类号 |
G03G15/043(2006.01)I;G03G15/00(2006.01)I |
主分类号 |
G03G15/043(2006.01)I |
代理机构 |
北京三友知识产权代理有限公司 11127 |
代理人 |
李辉;黄纶伟 |
主权项 |
一种曝光装置,该曝光装置包括:至少一个发光元件,其设置于基板上以在该基板的法线方向上发光;至少一个全息图元素,其被记录在设置于所述基板上的记录层上,以与所述发光元件中的每一个形成组,衍射从所述发光元件发出的光,并且将衍射光会聚在存在于所述发光元件的法线及被曝光面上的聚光点;以及至少一个光抑制部,其设置在所述组处并且布置在连接所述发光元件和所述聚光点的直线上,使得被所述全息图元素衍射的光通过所述光抑制部的外侧并会聚在所述聚光点,从而抑制未被所述全息图元素衍射的、从所述发光元件向所述聚光点笔直前进的零次光的透射。 |
地址 |
日本东京都 |