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<p>본 발명은, 공정 챔버와; 상기 공정 챔버 내에 구비되며 상하 구동되는 척; 상기 척의 외주연에 장착되는 포커스 링; 및 상기 척에 안착되는 웨이퍼 또는 웨이퍼 트레이를 상기 척에 고정하기 위한 클램프를 포함하며, 상기 포커스 링은, 포커스링 베이스에 고정되는 제 1 포커스 링과, 상기 척의 외주연에 고정 또는 안착되는 제 2 포커스 링의 결합으로 이루어져 상기 척이 하강할 때 상기 제 2 포커스 링이 상기 제 1 포커스 링보다 더 하강하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리 장치를 제공한다.</p> |
