基底的处理装置及其方法

摘要

本发明提供一种在藉由供应光阻来执行涂覆制程前可将晶圆的温度维持在制程温度处之方法。根据本发明，在供应光阻前，将帮助光阻之扩散的稀释剂供应于晶圆上。以使得晶圆具有根据稀释剂之制程温度的受温度控制之状态供应稀释剂。