发明名称 一种激光送粉法制备氧化铝基共晶陶瓷的方法
摘要 一种激光送粉法制备氧化铝基共晶陶瓷的方法,通过加热共晶陶瓷减少区熔过程中的热应力,从而降低粉末熔化过程中的裂纹产生,将粉末输送至激光熔池的前方,送粉粉末落到基底时完成激光区熔定向凝固,在得到的共晶陶瓷面上继续在送粉器输送粉末,通过激光区熔将第二层的粉末熔化,并与底部激光区熔共晶陶瓷熔化结合为一个整体。如此反复,即可实现利用激光快速成型方法制备大体积共晶陶瓷材料。在加热和成形过程中,通过控制送粉量激光功率、扫描速度和光斑大小,同时充入高纯惰性气体,使得炉体中的空气完全逸出,消除了成形材料内部的气孔,可以获得稳定的晶体生长。利用重复堆积、多次熔覆的方法,使粉末重复熔于基体,从而实现大体积共晶陶瓷的制备。
申请公布号 CN102557596A 申请公布日期 2012.07.11
申请号 CN201210002243.X 申请日期 2012.01.05
申请人 西北工业大学 发明人 苏海军;于建政;张军;刘林;傅恒志
分类号 C04B35/10(2006.01)I;C04B35/622(2006.01)I 主分类号 C04B35/10(2006.01)I
代理机构 西北工业大学专利中心 61204 代理人 慕安荣
主权项 一种激光送粉法制备氧化铝基共晶陶瓷的方法,其特征在于,包括以下步骤:步骤1,配制共晶陶瓷粉末;步骤2,表面气氛加热炉加热;将得到的部分粉末均匀铺在金属基板上形成共晶陶瓷基底;将铺有共晶陶瓷基底的金属基板置于表面气氛加热炉的加热板上;向炉膛内通入保护气体N2气;N2气流量100~150ml/min;对加热板加热,进而通过加热板对粉末加热至1200℃;加热中,600℃以下以导通比为20%的速度加热,600℃以上以导通比为40%的速度加热;加热中持续保温,使试样温度与加热板温度一致;加热中持续通入N2气;得到加热后的共晶陶瓷基底;步骤3,成形共晶陶瓷;采用激光区熔方法成形共晶陶瓷的过程,其具体过程是:将剩余的共晶陶瓷粉末置于送粉器中,使送粉器和激光器位于共晶陶瓷基底表面成形共晶陶瓷的起点处,同时启动送粉器和激光器;送粉器将粉末输送至激光熔池水平移动方向的边缘处,所述粉末落到共晶陶瓷基底表面时被水平移动过来的激光熔池熔化;激光器沿共晶陶瓷基底的长度方向逐行水平扫描,当激光熔池水平移动过去后,被熔化的粉末凝固,在共晶陶瓷基底表面形成第一道共晶陶瓷;当激光器完成第一行扫描后,沿共晶陶瓷基底表面宽度平移,进行第二行的水平扫描,得到在共晶陶瓷基底表面形成的第二道共晶陶瓷;以此类推,激光器逐渐向共晶陶瓷基底的宽度方向推进,直至整个共晶陶瓷基底表面形成第一层共晶陶瓷;当第一层共晶陶瓷的成形完成后,送粉器和激光器回到起点,按成形第一层共晶陶瓷的方法,在得到的第一层共晶陶瓷表面继续成形第二层共晶陶瓷;重复上述激光区熔成形共晶陶瓷的过程,得到所需的共晶陶瓷;成形共晶陶瓷中,激光功率为200~800W,激光扫描速度0.2~6mm/min,激光光斑直径为8~12mm,激光器沿共晶陶瓷基底宽度平移后相邻两行中心线的间距为7~10mm,送粉器的送粉速度为0.6~2.0g/min;在激光区熔过程中,表面气氛加热炉对试样持续加热,使试样的温度保持在1200℃,并通入N2气;步骤4,共晶体陶瓷冷却,当得到所需的体积的共晶陶瓷后,停止送粉器送粉,关闭激光;表面气氛加热炉以10~20℃/min的降温速度冷却至800℃后,得到的共晶陶瓷随炉冷却至室温,获得表共晶自生复合陶瓷体。
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