发明名称 电吸收调制器及光半导体装置
摘要 本发明提供一种电吸收调制器,其目的在于,提高具有AlGaInAs光吸收层的电吸收调制器的特性。在n型InP衬底(1)上,按顺序层叠有n型InP包覆层(2)、AlGaInAs光吸收层(4)、p型InGaAsP光波导层(6)、以及p型InP包覆层(7)。p型InGaAsP光波导层(6)具有组成不同的三个InGaAsP层(6a、6b、6c)。InGaAsP层(6a、6b、6c)的价电子带间的能量势垒与InGaAsP层为单层的情况相比,其能量势垒变小。
申请公布号 CN102540504A 申请公布日期 2012.07.04
申请号 CN201110386620.X 申请日期 2011.11.29
申请人 三菱电机株式会社 发明人 大和屋武
分类号 G02F1/017(2006.01)I;H01S5/343(2006.01)I;H01S5/20(2006.01)I;H01S5/22(2006.01)I 主分类号 G02F1/017(2006.01)I
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人 毛立群;王忠忠
主权项 一种电吸收调制器,其特征在于,具备:半导体衬底;在所述半导体衬底上按顺序层叠的n型InP包覆层、AlGaInAs光吸收层、InGaAsP光波导层、以及p型InP包覆层,所述InGaAsP光波导层具有组成不同的多个InGaAsP层,所述多个InGaAsP层的价电子带间的能量势垒与InGaAsP层为单层的情况相比,其能量势垒变小。
地址 日本东京都