首页
产品
黄页
商标
征信
会员服务
注册
登录
全部
|
企业名
|
法人/股东/高管
|
品牌/产品
|
地址
|
经营范围
发明名称
Fabricating method of semiconductor device for reuse of substrate
摘要
申请公布号
KR101161264(B1)
申请公布日期
2012.07.02
申请号
KR20100124812
申请日期
2010.12.08
申请人
发明人
分类号
H01L21/20;H01L33/00
主分类号
H01L21/20
代理机构
代理人
主权项
地址
您可能感兴趣的专利
Sheathless arthoscope and system
X-ray device and x-ray method for studying a three-dimensional object
HEAT EXCHANGER PERFORATED FINS
Shopping cart
METHOD FOR MANUFACTURING RUBBER COMPOSITION
Ski binding
Display apparatus, display panel, and display method
MANIPULATION OF STEM CELL FUNCTION BY P53 ISOFORMS
SANDWICH ASSAYS IN DROPLETS
TEST DEVICE
SEMICONDUCTOR DIE HAVING A REDISTRIBUTION LAYER
Wind turbine rotor with pitch brake
PAPER SHREDDER
MANAGEMENT OF NETWORK CONFIGURATION IN TELECOMMUNICATIONS NETWORKS
一种用于纤维素衍生化的方法
输电线路氧化锌避雷器在线监测系统
一种建筑外墙结构自防水系统及其施工方法
一种防盗门
一种大口径管道环形浮动式止推架
一种芝麻炒米饼及其制作方法