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Verfahren zur Erzeugung extrem ultravioletter Strahlung durch Emission breitbandiger Strahlung aus einem Plasma unter Vakuumbedingungen, mit den Schritten: – Bereitstellen von Material zur Plasmaerzeugung unter Beteiligung wenigstens eines Elements der V. bis VII. Hauptgruppe der 5. Periode des Periodensystems der Elemente, – Aufbereiten des Materials zur Erzeugung des Plasmas, indem es verdampft als Arbeitsgas in einer evakuierten Entladungskammer bereitgestellt und bei einer Gasentladung in strahlendes Plasma umgewandelt wird, – Emission von intensiver EUV-Strahlung aus dem Plasma mit erhöhter Emissionscharakteristik im Bereich um 13 nm oberhalb der L-Absorptionskante von Silizium und – Reflexion der aus dem Plasma emittierten EUV-Strahlung an einem Mo/Si-Spiegel, an dessen Reflexionsvermögen das Emissionsspektrum des Materials durch Beteiligung wenigstens eines der besagten Elemente angepasst ist.
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