发明名称 |
半导体激光二极管发光单元及器件 |
摘要 |
本发明公开了一种半导体激光二极管发光单元及器件。该发光单元输出激光的功率大于0.2W,其结构自下往上包括:第一限制层、第一波导层、量子阱层、第二波导层和第二限制层,其中:第一限制层和第二限制层,用于形成PN结进行载流子输入;第一波导层和第二波导层的厚度均介于400~600nm之间,用于形成激光传输的通路;量子阱层,用于作为有源区产生激光。本发明通过增加发光单元中波导层的厚度,能够有效地提高半导体激光二极管的COD阈值。 |
申请公布号 |
CN102130423B |
申请公布日期 |
2012.06.27 |
申请号 |
CN201110033774.0 |
申请日期 |
2011.01.31 |
申请人 |
中国科学院半导体研究所 |
发明人 |
郑凯;王俊;熊聪;马骁宇 |
分类号 |
H01S5/20(2006.01)I;H01S5/343(2006.01)I |
主分类号 |
H01S5/20(2006.01)I |
代理机构 |
中科专利商标代理有限责任公司 11021 |
代理人 |
周国城 |
主权项 |
一种半导体激光二极管发光单元,其特征在于,该发光单元输出激光的功率大于0.2W,其结构自下往上包括:第一限制层、第一波导层、量子阱层、第二波导层和第二限制层,其中:所述第一限制层和第二限制层,用于形成PN结进行载流子输入,其中,所述第一限制层为N型限制层,所述第二限制层为P型限制层,所述N型限制层和所述P型限制层均为厚度介于1~2μm之间的Al0.55Ga0.45As;所述第一波导层和第二波导层,用于形成激光传输的通路,其中,所述第一波导层和第二波导层均为厚度介于400~600nm之间的Al0.35Ga0.65As;所述量子阱层,用于作为有源区产生激光,所述量子阱层为厚度介于5~50nm之间的AlGaInAs。 |
地址 |
100083 北京市海淀区清华东路甲35号 |