发明名称 半导体激光二极管发光单元及器件
摘要 本发明公开了一种半导体激光二极管发光单元及器件。该发光单元输出激光的功率大于0.2W,其结构自下往上包括:第一限制层、第一波导层、量子阱层、第二波导层和第二限制层,其中:第一限制层和第二限制层,用于形成PN结进行载流子输入;第一波导层和第二波导层的厚度均介于400~600nm之间,用于形成激光传输的通路;量子阱层,用于作为有源区产生激光。本发明通过增加发光单元中波导层的厚度,能够有效地提高半导体激光二极管的COD阈值。
申请公布号 CN102130423B 申请公布日期 2012.06.27
申请号 CN201110033774.0 申请日期 2011.01.31
申请人 中国科学院半导体研究所 发明人 郑凯;王俊;熊聪;马骁宇
分类号 H01S5/20(2006.01)I;H01S5/343(2006.01)I 主分类号 H01S5/20(2006.01)I
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人 周国城
主权项 一种半导体激光二极管发光单元,其特征在于,该发光单元输出激光的功率大于0.2W,其结构自下往上包括:第一限制层、第一波导层、量子阱层、第二波导层和第二限制层,其中:所述第一限制层和第二限制层,用于形成PN结进行载流子输入,其中,所述第一限制层为N型限制层,所述第二限制层为P型限制层,所述N型限制层和所述P型限制层均为厚度介于1~2μm之间的Al0.55Ga0.45As;所述第一波导层和第二波导层,用于形成激光传输的通路,其中,所述第一波导层和第二波导层均为厚度介于400~600nm之间的Al0.35Ga0.65As;所述量子阱层,用于作为有源区产生激光,所述量子阱层为厚度介于5~50nm之间的AlGaInAs。
地址 100083 北京市海淀区清华东路甲35号