发明名称 精细图案形成方法及用于此法的抗蚀基板处理溶液
摘要 本发明提供了一种用于不明显增加生产成本或削弱生产效率而使图案小型化的方法。本发明还提供了一种精细的抗蚀图和用于形成该精细图案的抗蚀基板处理溶液。该图案形成方法包括处理步骤。在该处理步骤中,用含有含氨基,优选含叔聚胺的水溶性聚合物的抗蚀基板处理溶液处理显影后的抗蚀图,以便减小由显影形成的抗蚀图的有效尺寸。本发明还涉及通过该方法形成的抗蚀图,此外还涉及用于此方法的处理溶液。
申请公布号 CN101523296B 申请公布日期 2012.05.30
申请号 CN200780038343.5 申请日期 2007.10.12
申请人 AZ电子材料(日本)株式会社 发明人 能谷刚;岛崎龙太;小林政一
分类号 G03F7/40(2006.01)I;H01L21/027(2006.01)I 主分类号 G03F7/40(2006.01)I
代理机构 北京三幸商标专利事务所 11216 代理人 刘激扬
主权项 一种形成精细抗蚀图的图案形成方法,包括用含有含氨基水溶性聚合物的抗蚀基板处理溶液处理显影后的抗蚀图的步骤,以减小由显影形成的所述抗蚀图的有效尺寸,其中所述含氨基水溶性聚合物是聚合度为8~10的聚N,N’‑二甲基烯丙基胺或聚合度为25~30的聚(N‑甲基‑3,5‑哌啶二基亚甲基),其中用所述抗蚀基板处理溶液处理所述抗蚀图10~300秒,处理温度为5~50℃,含氨基水溶性聚合物在处理溶液中的浓度为0.01~5重量%。
地址 日本国东京都