极紫外微光刻的基底与反射镜以及制造它们的方法

摘要

本发明涉及一种反射镜，其包含基底以及用于EUV波长区的反射涂层，其中基底的表面区域在反射涂层之下沿着反射涂层均匀地延伸，并且从基底的表面观察起，该表面区域具有最深达5μm的深度。这里，该表面区域具有比其余基底高2％的密度。此外，本发明涉及同样具有此类表面区域的基底。本发明还涉及通过离子或电子照射而制造具有此类表面区域的此类反射镜与基底的方法。

主权项

一种反射镜，包含基底和用于EUV波长区的反射涂层，其特征在于：所述基底的表面区域在所述反射涂层之下沿着所述反射涂层均匀地延伸，且从所述基底的表面观察起，所述表面区域具有最深达5μm的深度，所述表面区域具有比其余基底高2％的密度。