发明名称 浮雕印刷版的制版方法及浮雕印刷版制版用冲洗液
摘要 本发明提供能够容易地除去在雕刻时产生的版上的浮渣的浮雕印刷版的制版方法、及适宜用于所述浮雕印刷版的制版方法中的浮雕印刷版制版用冲洗液。一种浮雕印刷版的制版方法,其特征在于,其依次具有准备具有浮雕形成层的浮雕印刷版原版的工序、通过曝光对浮雕印刷版原版进行雕刻的工序、及用冲洗液除去通过雕刻而产生的雕刻浮渣的工序,该冲洗液是pH为9以上的水溶液,该浮雕形成层含有具有下述式(I)所示基团的聚合物。-M(OR1)(R2)n(I)(式中,R1表示氢原子或烃基,M表示Si、Ti或Al,当M为Si时n为2,当M为Ti时n为2,当M为Al时n为1,具有n个的R2分别独立地表示烃基或OR3,R3表示氢原子或烃基)。
申请公布号 CN102470663A 申请公布日期 2012.05.23
申请号 CN201080036568.9 申请日期 2010.08.12
申请人 富士胶片株式会社 发明人 田代宏;足立圭一
分类号 B41C1/05(2006.01)I;B41N1/12(2006.01)I;B41N3/06(2006.01)I 主分类号 B41C1/05(2006.01)I
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人 蒋亭
主权项 一种浮雕印刷版的制版方法,其特征在于,依次具有以下工序:准备具有浮雕形成层的浮雕印刷版原版的工序、通过曝光对浮雕印刷版原版进行雕刻的工序、以及用冲洗液除去通过雕刻而产生的雕刻浮渣的工序,该冲洗液是pH为9以上的水溶液,该雕刻浮渣含有具有下述式(I)所示基团的聚合物。‑M(R1)(R2)n    (I)式(I)中,R1表示OR3或卤素原子,M表示Si、Ti或Al,当M为Si时n为2,当M为Ti时n为2,当M为Al时n为1,具有n个的R2分别独立地表示烃基、OR3或卤素原子,R3表示氢原子或烃基。
地址 日本国东京都