发明名称 |
Vorrichtung zum Bestrahlen von Oberflächen |
摘要 |
<p>Für die Bestrahlung von Oberflächen wird eine Vorrichtung (1) mit einem Strahler vorgeschlagen, wobei der Strahler mindestens eine tunnelartige Durchgangsöffnung (3) aufweist sowie ein Mittel (8, 11), das dazu ausgelegt ist, ein Prozessgas durch die mindestens eine tunnelartige Durchgangsöffnung (3) strömen zu lassen. Dadurch kann auf eine separate Gaszufuhrvorrichtung verzichtet werden. Optional kann die Vorrichtung auch einen Strahlersockel (8) mit mindestens einer Gasöffnung (12) für die Zu- und/oder Abfuhr von Prozessgas aufweisen.</p> |
申请公布号 |
DE102010043208(A1) |
申请公布日期 |
2012.05.03 |
申请号 |
DE20101043208 |
申请日期 |
2010.11.02 |
申请人 |
OSRAM AG |
发明人 |
HALFMANN, HELMUT;HOMBACH, AXEL;ROTH, MARKUS |
分类号 |
H01J65/04;A61L2/10;G21K5/00 |
主分类号 |
H01J65/04 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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