发明名称 聚焦环组合、IMP溅射设备
摘要 一种聚焦环组合,包括:聚焦环,所述聚焦环上设有通孔;安装钉,所述安装钉包括柱体及膨大的背部,所述背部贴附在所述聚焦环的内表面,所述柱体通过所述通孔延伸出所述聚焦环的外表面,所述柱体的内部设有螺纹孔;其中,所述安装钉的背部厚度大于1.53mm。本发明还提供了与上述聚焦环组合相对应的IMP溅射设备。本发明的聚焦环组合、聚焦环和IMP溅射设备将或适于将安装钉的背部加厚,即增加了背部在溅射中被消耗掉的时间,这样也就增加了聚焦环的使用寿命。
申请公布号 CN102437003A 申请公布日期 2012.05.02
申请号 CN201110403783.4 申请日期 2011.12.07
申请人 宁波江丰电子材料有限公司 发明人 姚力军;相原俊夫;大岩一彦;潘杰;王学泽;汪涛
分类号 H01J37/32(2006.01)I;H01J37/34(2006.01)I 主分类号 H01J37/32(2006.01)I
代理机构 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人 骆苏华
主权项 一种聚焦环组合,其特征在于,包括:聚焦环,所述聚焦环上设有通孔;安装钉,所述安装钉包括柱体及膨大的背部,所述背部贴附在所述聚焦环的内表面,所述柱体通过所述通孔延伸出所述聚焦环的外表面,所述柱体的内部设有螺纹孔;其中,所述安装钉的背部厚度大于1.53mm。
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