发明名称 |
一种反应腔漏气检测方法及真空反应器控制方法 |
摘要 |
一种反应腔漏气检测方法及真空反应器控制方法,为了实现对真空反应器的反应腔进行实时准确的漏气状况检测,同时保证检测步骤不影响产能。本发明提出了新的检测方法:在反应腔内完成对待加工基片的加工后移除待加工基片,进入清洗流程。在清洗流程中通入氧气点燃等离子,通过光学观测器件来分析氧等离子产生的光谱中是否有代表氮气的频谱。如果有代表氮气的频谱强度大于设定值则判断反应腔存在泄露,停止真空反应器运行;没有检测到代表氮气的光谱大于设定参考值时进入下一步的加工步骤。通过本方法可以利用现有的加工流程和设备实现实时的漏气检测保证了产能。 |
申请公布号 |
CN102403191A |
申请公布日期 |
2012.04.04 |
申请号 |
CN201010280151.9 |
申请日期 |
2010.09.14 |
申请人 |
中微半导体设备(上海)有限公司 |
发明人 |
任刚;黄智林 |
分类号 |
H01L21/00(2006.01)I;G01M3/00(2006.01)I;G01J3/28(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/00(2006.01)I |
代理机构 |
上海智信专利代理有限公司 31002 |
代理人 |
王洁 |
主权项 |
一种反应腔漏气检测方法,包括:基片加工步骤,在反应腔里对工件进行加工;等离子清洗步骤,通入氧气并点燃等离子,检测氧等离子体中的光谱,检测到代表氮气的光谱大于参考值时判断反应腔漏气。 |
地址 |
201201 上海市浦东金桥出口加工区(南区)泰华路188号 |